近日美光（Micron）宣布，已於2026年1月17日與力積電（PSMC）簽署獨家合作意向書，將以18億美元收購力積電位於中國台灣苗栗縣銅鑼鄉的晶圓廠（不含生產相關機器設備），其中包含了一座潔淨室建設長期的300萬平方英尺的300mm晶工。這筆交易有利於美光提升先進製程DRAM產能，並提升力積電的成熟製程DRAM供應，預計能提升2027年全球DRAM供應量。
美光將協助力積電在新竹P3工廠進一步提升現有DRAM製程技術，而力積電也透過這筆交易增強財務實力，在全球記憶體市場回暖之際，結合3D晶圓堆疊（WoW）和中介層（Interposer）等先進封裝技術與材料，實現轉型並躋身人工智慧（AI）供應鏈的重要環節。
目前力積電的DRAM產能主要採用25nm和38nm製程，因此生產的DDR4也只能供應容量較小的產品。透過與美光之間的合作，力積電預計未來一年內可獲得美光授權的1y nm（第二代10nm等級）製程技術，後續還有機會再取得1z nm（第三代10nm等級）製程技術，從而提升DDR4的容量。這不僅讓力積電維持了在通用DRAM市場的競爭力，而且擴大了位元產出，同時也避免了與美光的產品線相互競爭。
該筆交易預計2026年第二季完成，交易協議已完成並獲得必要的監管批准。交易完成後，美光將接管力積電P5工廠的廠區所有權和控制權，分階段安裝設備並擴大DRAM生產規模。
